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動態(tài)光散射技術的角度依賴性

更新時間:2023-05-08  |  點擊率:2084

       與單角度動態(tài)光散射技術相比,多角度動態(tài)光散射(MADLS)顆粒測量技術能夠提高顆粒粒度分布的測量準確性。但在MADLS技術中,測量角度的選擇常常與被測顆粒體系的分布有關。對100nm、500nm的單峰模擬分布和300 nm與600nm混合的雙峰模擬分布的顆粒體系,分別在1、3、6、9個散射角條件下進行了測量。顆粒粒度反演結果表明,隨著散射角個數(shù)的增大,顆粒粒度分布更趨于真實的顆粒粒度分布。對數(shù)量比為5:1的100nm 與503nm雙峰分布的聚苯乙烯顆粒,分別在1、3、5、10個散射角條件下進行了測量,實測結果表明采用單角度測量只能得到單峰分布,3個及更多散射角可得到雙峰分布,并且雙峰的數(shù)量比隨散射角數(shù)量的增加逐漸趨近真實的數(shù)量比。因此,MADLS顆粒測量技術能夠改善顆粒粒度分布的測量結果,但這種改善程度會隨散射角的增多逐漸降低。由于散射角個數(shù)的增多會增加散射角的校準噪聲和光強相關函數(shù)的測量噪聲,因而會導致在有些情況下顆粒粒度分布的測量結果反而變差。

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